一、課程說明(Course Description)
課程大綱:
1. 真空技術(11小時)
1.1. 真空排氣系統
1.2. 原子及分子於表面上的吸附
1.3. 釋氣
2. 表面結構及熱力學(7小時)
2.1. 古典熱力學處理方式
2.2. 統計熱力學處理方式
2.3. 表面再建構
3. 質點與表面交互作用(13小時)
3.1. 原子與表面碰撞:居住及黏滯係數
3.2. 表面擴散
3.3. 高能質點碰撞:濺鍍理論、表面破壞、反彈佈植及混合
3.4. 電子、離子碰撞引致的表面化學
4. 電漿放電基本原理(13小時)
4.1. 電漿之碰撞行為
4.2. 電子分佈函數
4.3. 電漿電位、電漿鞘區
4.4. 磁場效應
4.5. 電漿與表面交互作用
4.6. 輝光放電形式:直流、交流及微波
5. 薄膜製程法的主要運作原理(1小時)
5.1. 蒸鍍
5.2. 濺鍍
5.3. 化學氣相蒸鍍
5.4. 電漿輔助化學氣相蒸鍍及蝕刻
5.5. 光激化學氣相蒸鍍
5.6. 離子塗佈
5.7. 離子球團束鍍覆
二、指定用書(Text Books)
1. 隨堂講義及隨堂參考資料
2. "A User's Guide to Vacuum Technology"
by J. F. O'Hanlon
(John Wiley & Sons, New York, 1980)
三、參考書籍(References)
請至圖書館教師指定參考書目處查閱
四、教學方式(Teaching Method)
每星期三小時由任課教師於課堂上講授,學生若有問題可隨時於課堂上發問並討論,亦可於課後與教師約定時間進行討論。上課時將不定期點名,以提高同學出席率,並敦促同學們盡量把握上課學習機會。學期中將有不定期作業、點名及二次大考,包括一期中考及一期末考,以了解學生學習情況。
助教資料:
姓名:蔣元智
辦公室:材料科技館326-2室
辦公室電話:分機42613
電子信箱:dodo740914@hotmail.com
五、教學進度(Syllabus)
六、成績考核(Evaluation)
1. 作業(10%)
2. 點名(10%)
3. 期中考(05月01日,40%)
4. 期末考(06月19日,40%)
七、可連結之網頁位址
上課發放
網路精簡版參見http://140.114.18.41/film/index.html