一、課程說明(Course Description)
使學生瞭解高分子材料特性對於製程之影響,並對於奈米轉印在產品量產化製程與設備有更深的瞭解。並以次波長結構之抗反射光學應用實例說明。
二、指定用書(Text Books)
自備講義
三、參考書籍(References)
Hal F. Brinson and L. Catherine Brinson, “Polymer Engineering Science and Viscoelasticity –An Introduction, ” Springer, 2008
自備講義、近期研究論文
四、教學方式(Teaching Method)
授課與文獻蒐集討論
五、教學進度(Syllabus)
1.高分子材料簡介
2.高分子材料特性(An Introduction to Polymer Viscoelastic Properties and Characterization)
3.高分子材料特性(Phenomenological Mechanical Models)
4.奈米轉印製程
5.奈米轉印設備
6.次波長結構抗反射模擬
7.次波長結構抗反射薄膜製程
8.最新研究報告
9.討論與分享
六、成績考核(Evaluation)
期中考30%
期末考30%
期末專題報告(口頭及書面)35%
課堂表現5%