一、課程說明(Course Description)
<br>使學生瞭解高分子材料特性對於製程之影響，並對於奈米轉印在產品量產化製程與設備有更深的瞭解。並以次波長結構之抗反射光學應用實例說明。
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<br>二、指定用書(Text Books)
<br>自備講義
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<br>三、參考書籍(References)
<br>Hal F. Brinson and L. Catherine Brinson, “Polymer Engineering Science and Viscoelasticity –An Introduction, ” Springer, 2008
<br>自備講義、近期研究論文
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<br>四、教學方式(Teaching Method)
<br>授課與文獻蒐集討論
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<br>五、教學進度(Syllabus)
<br>1.高分子材料簡介
<br>2.高分子材料特性(An Introduction to Polymer Viscoelastic Properties and Characterization)
<br>3.高分子材料特性(Phenomenological Mechanical Models)
<br>4.奈米轉印製程
<br>5.奈米轉印設備
<br>6.次波長結構抗反射模擬
<br>7.次波長結構抗反射薄膜製程
<br>8.最新研究報告
<br>9.討論與分享
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<br>六、成績考核(Evaluation)
<br>期中考30%
<br>期末考30%
<br>期末專題報告（口頭及書面）35%
<br>課堂表現5%
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