一、課程說明(Course Description)
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<br>課程大綱：
<br>1. 真空技術概要
<br>2. 薄膜製程技術簡介
<br>   a. 物理氣相蒸鍍
<br>   b. 化學氣相蒸鍍
<br>3. 薄膜微結構
<br>4. 薄膜物性及工程應用簡介
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<br> 二、指定用書(Text Books)
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<br>"The Materials Science of Thin Films", 2nd ed.
<br>by M. Ohring (Academic Press, Boston, 1995)
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<br> 三、參考書籍(References)
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<br>1. 隨堂講義及隨堂參考資料
<br>2. "A User's Guide to Vacuum Technology"
<br>   by J. F. O'Hanlon
<br>   (John Wiley & Sons, New York, 1980)
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<br> 四、教學方式(Teaching Method)
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<br>每星期三小時由任課教師於課堂上講授，學生若有問題可隨時於課堂上發問並討論，亦可於課後與教師約定時間進行討論。上課時將不定期點名，以提高同學出席率，並敦促同學們盡量把握上課學習機會。學期中將有六次小考、二次大考，包括一期中考及一期末考，及一次報告，以了解學生學習情況。
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<br>本學期還將配合教材安排工廠、實驗室參觀或影片欣賞等活動或單元。
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<br>星期五第五堂課，不定期將有演習課，由助教負責，協助同學解決教材及習題上的問題。
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<br>助教資料：
<br>           姓名：吳國瑋、王磊善、蕭肅競
<br>           辦公室：材料科技館326-2室
<br>           辦公室電話：分機42613
<br>           電子信箱：tcydan28@hotmail.com、jsl_s205@hotmail.com、raiven70275@hotmail.com
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<br> 五、教學進度(Syllabus)
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<br>1. 真空技術概要：11小時
<br>2. 物理氣相蒸鍍：14小時
<br>3. 化學氣相蒸鍍：13小時
<br>4. 薄膜微結構：10小時
<br>5. 薄膜物性及工程應用簡介：0-1小時
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<br> 六、成績考核(Evaluation)
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<br>1. 六次小考 (24%)
<br>2. 點名 (6%)
<br>3. 期中考 (11月19日，30% 或 35%)
<br>4. 期末考 (01月14日，30% 或 35%)
<br>5. 報告%（10%，不確定）
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<br> 七、可連結之網頁位址
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<br>助教將影印講義及隨堂參考資料，並於課堂上發放。
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