一、課程說明(Course Description)
<br>課程大綱：
<br>1.	真空技術（11小時）
<br>1.1.	真空排氣系統
<br>1.2.	原子及分子於表面上的吸附
<br>1.3.	釋氣
<br>
<br>2.	表面結構及熱力學（7小時）
<br>2.1.	古典熱力學處理方式
<br>2.2.	統計熱力學處理方式
<br>2.3.	表面再建構
<br>
<br>3.	質點與表面交互作用（13小時）
<br>3.1.	原子與表面碰撞：居住及黏滯係數
<br>3.2.	表面擴散
<br>3.3.	高能質點碰撞：濺鍍理論、表面破壞、反彈佈植及混合
<br>3.4.	電子、離子碰撞引致的表面化學
<br>
<br>4.	電漿放電基本原理（13小時）
<br>4.1.	電漿之碰撞行為
<br>4.2.	電子分佈函數
<br>4.3.	電漿電位、電漿鞘區
<br>4.4.	磁場效應
<br>4.5.	電漿與表面交互作用     
<br>4.6.	輝光放電形式：直流、交流及微波
<br>
<br>5.	薄膜製程法的主要運作原理（1小時）
<br>5.1.	蒸鍍
<br>5.2.	濺鍍
<br>5.3.	化學氣相蒸鍍
<br>5.4.	電漿輔助化學氣相蒸鍍及蝕刻
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br> 二、指定用書(Text Books)
<br>
<br>1. 隨堂講義及隨堂參考資料
<br>2. "A User's Guide to Vacuum Technology" 
<br>   by J. F.  O'Hanlon
<br>   (John Wiley & Sons, New York, 1980)
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br> 三、參考書籍(References)
<br>
<br>請至圖書館教師指定參考書目處查閱
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br> 四、教學方式(Teaching Method)
<br>
<br>每星期三小時由任課教師於課堂上講授，學生若有問題可隨時於課堂上發問並討論，亦可於課後與教師約定時間進行討論。上課時將不定期點名，以提高同學出席率，並敦促同學們盡量把握上課學習機會。學期中將有不定期作業、點名及二次大考，包括一期中考及一期末考，以了解學生學習情況。
<br>
<br>助教資料：
<br>
<br>           姓名：吳國瑋（演習課、作業批改）、王磊善（作業批改）、潘俊羽（課堂）、陳冠宇（課堂）、楊岳庭（課堂）
<br>
<br>           辦公室：材料科技館518、326-2、326-2、326-2、518室
<br>
<br>           辦公室電話：分機42616、42613、42613、42613、42616
<br>           
<br>           電子信箱： tcydan28@hotmail.com，JSL_S205@hotmail.com，ss001234567890@hotmail.com，harry-0519@hotmail.com，                      idonotwanttothink_1021@hotmail.com
<br>                      
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br> 五、教學進度(Syllabus)
<br>
<br>1. 真空技術：11小時
<br>2. 表面結構及熱力學：7小時
<br>3. 質點與表面交互作用：13小時
<br>4. 電漿放電基本原理：13小時
<br>5. 薄膜製程法的主要運作原理：1小時
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br> 六、成績考核(Evaluation)
<br>
<br>1. 作業(10%）
<br>2. 點名(10%)
<br>3. 期中考(04月13日，40%)
<br>4. 期末考(06月22日，40%)
<br>5. 上課表現額外加分(6%)
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br> 七、可連結之網頁位址
<br>
<br>上課發放講義之
<br>網路精簡版參見http://140.114.？.？/？
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>
<br>