一、課程說明(Course Description)
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<br>目的：完成nMOS元件
<br>先修課程：微電子工程
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<br>課程內容：由Metal Gate PMOS電晶體實作之過程中學習積體電路製作技術與程序。
<br>1.Oxidation.
<br>2.Source and Drain Diffusion Region Opening.
<br>3.Source and Drain Diffusion.
<br>4.Gate Oxide Growth.
<br>5.Contact Hole Opening.
<br>6.Metallization.
<br>7.Metal Lina Pattern.
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<br> 二、指定用書(Text Books)
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<br>講義－Ｍetal Gate PMOS電晶體實作。
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<br> 三、參考書籍(References)
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<br>講義及微電子工程教科書
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<br> 四、教學方式(Teaching Method)
<br>在無塵室實驗
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<br> 五、教學進度(Syllabus)
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<br> 六、成績考核(Evaluation)
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<br>實驗報告及助教評分
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