一、課程說明(Course Description)

課程大綱:
1. Essentials of Vacuum Technology (真空技術概要)
2. A Synopsis of Vacuum Processing Technology (薄膜製程技術簡介)
a. Physical vapor deposition (物理氣相蒸鍍)
b. Chemical vapor deposition (化學氣相蒸鍍)
3. Film Formation and Structure (薄膜成膜及微結構)
4. A Synopsis of Thin Film Physical Properties and Applications (薄膜物性及工程應用簡介)

二、指定用書(Text Books)

"The Materials Science of Thin Films", 2nd ed.
by M. Ohring (Academic Press, Boston, 1995)


三、參考書籍(References)

1. 隨堂講義及隨堂參考資料
2. "A User's Guide to Vacuum Technology"
by J. F. O'Hanlon
(John Wiley & Sons, New York, 1980)


四、教學方式(Teaching Method)

每星期三小時由任課教師於課堂上講授,學生若有問題可隨時於課堂上發問並討論,亦可於課後與教師約定時間進行討論。上課時將不定期點名,以提高同學出席率,並敦促同學們盡量把握上課學習機會。學期中將有六次小考、二次大考,包括一期中考及一期末考,及一次報告,以了解學生學習情況。

本學期可能配合教材安排影片欣賞。

星期二中午課程,不定期將有演習課,由助教負責,協助同學解決教材及習題上的問題。


助教資料:
姓名:邱士翔、黃獻興、林廷宇、洪浩肯
辦公室:材料科技館302及518室
辦公室電話:分機42613, 42616
電子信箱:lbj54743@hotmail.com, six5782.mse97@g2.nctu.edu.tw, tonykitty2@yahoo.com.tw, howcanbei26@gmail.com


五、教學進度(Syllabus)

1. 真空技術概要:11小時
2. 物理氣相蒸鍍:14小時
3. 化學氣相蒸鍍:13小時
4. 薄膜微結構:10小時
5. 薄膜物性及工程應用簡介:0-1小時


六、成績考核(Evaluation)

1. 六次小考 (24%)
2. 點名 (6%)
3. 期中考 (11月22日,30% 或 35%)
4. 期末考 (01月17日,30% 或 35%)
5. 影片觀賞考試(10%,不確定)


七、可連結之網頁位址

助教將影印講義及隨堂參考資料,並於課堂上發放。