一、課程說明(Course Desc<x>ription)
<br>
<br>課程大綱：
<br>1. Essentials of Vacuum Technology （真空技術概要）
<br>2. A Synopsis of Vacuum Processing Technology （薄膜製程技術簡介）
<br>   a. Physical vapor deposition （物理氣相蒸鍍）
<br>   b. Chemical vapor deposition （化學氣相蒸鍍）
<br>3. Film Formation and Structure （薄膜成膜及微結構）
<br>4. A Synopsis of Thin Film Physical Properties and Applications （薄膜物性及
<br>工程應用簡介）
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<br> 二、指定用書(Text Books)
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<br>"The Materials Science of Thin Films", 2nd ed.
<br>by M. Ohring (Academic Press, Boston, 1995)
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<br> 三、參考書籍(References)
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<br>1. 隨堂講義及隨堂參考資料
<br>2. "A User's Guide to Vacuum Technology"
<br>   by J. F. O'Hanlon
<br>   (John Wiley & Sons, New York, 1980)
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<br> 四、教學方式(Teaching Method)
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<br>每星期三小時由任課教師於課堂上講授，學生若有問題可隨時於課堂上發問並討論，亦可於課後
<br>與
<br>教師約定時間進行討論。上課時將不定期點名，以提高同學出席率，並敦促同學們盡量把握上課
<br>學
<br>習機會。學期中將有六次小考、二次大考，包括一期中考及一期末考，及一次報告，以了解學生
<br>學
<br>習情況。
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<br>本學期可能配合教材安排影片欣賞。
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<br>星期二中午課程，不定期將有演習課，由助教負責，協助同學解決教材及習題上的問題。
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<br>助教資料：
<br>           姓名：彭俞順
<br>           辦公室：材料科技館518室
<br>           辦公室電話：分機42616
<br>           電子信箱：d943586@oz.nthu.edu.tw
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<br>           姓名：王思雯
<br>           辦公室：材料科技館302室
<br>           辦公室電話：分機42613
<br>           電子信箱：q05237@gmail.com
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<br> 五、教學進度(Syllabus)
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<br>1. 真空技術概要：11小時
<br>2. 物理氣相蒸鍍：14小時
<br>3. 化學氣相蒸鍍：13小時
<br>4. 薄膜微結構：10小時
<br>5. 薄膜物性及工程應用簡介：0-1小時
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<br>六、成績考核(Evaluation)
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<br>1. 六次小考 (24%)
<br>2. 點名 (6%)
<br>3. 期中考 (11月16日，30% 或 35%)
<br>4. 期末考 (01月11日，30% 或 35%)
<br>5. 影片觀賞考試（10%，不確定）
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<br> 七、可連結之網頁位址
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<br>助教可協助影印講義及隨堂參考資料，但須自行付費。
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