Fall 2018
<br>電子工程研究所 Institute of Electronics Engineering
<br>科號 Course Number: 10520ENE 536000
<br>中文名稱 Course ti<x>tle: 薄膜製程
<br>英文名稱 Course English ti<x>tle: Thin Film Process
<br>學分Credit：3  
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<br>指定用書 (Text Books)
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<br>“真空技術與運用—Vacuum Technology and Application”, 行政院國家科學委員會精密儀器發展中心出版
<br>" Thin film deposition", by Donald L. Smith
<br>“中國材料科學 材料分析 汪建民 主編”
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<br>參考書籍 (References)
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<br>"A user guide to vacuum Tech.", by O'Hanlon
<br>"Vacuum Tech.", by Alexander Roth
<br>Thin film Technology, L. Maissel and R. Glang.
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<br>課程說明 (Course Desc<x>ription)
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<br>由基本的真空開始, 介紹各種薄膜鍍製, 進而量測了解薄膜性質。 授課與實做並重, 學生參與操作維護各機台訓
<br>練。此
<br>門課適合學製程的同學選修。
<br>課程大綱與進度
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<br>真空物理及技術 (三星期)
<br>一、真空基本概念 
<br>二、認識氣體 
<br>三、氣體物理特質 
<br>四、壓力量測 
<br>五、幫浦之種類與原理 
<br>六、質譜儀與相關真空密合組件 
<br>七、真空測漏與其應用 
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<br>薄膜製程與應用 (六星期)
<br>八、晶格種纇與薄膜的物理性質 
<br>九、薄膜的沉積與成長（物理氣相沉積） 
<br>十、電漿與濺鍍 
<br>十一、薄膜的沉積與成長（孕核成形、多晶及外沿生長） 
<br>十二、薄膜的沉積與成長 （化學氣相沉積） 
<br>十三、薄膜的蝕刻 
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<br>薄膜分析與實作 (六星期)
<br>十四、薄膜的結構與化學分析 (SEM, AFM, XRD, TEM, EDS, AES, XPS, SIMS)
<br>十五、實驗與報告﹣蒸鍍、濺鍍金屬膜、介電層，太陽能電池製作，薄膜量測及微結構分析
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<br>成績考核 
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<br>作業(25%)  期中考(25%)  實驗書面與口頭報告(50%) 
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